Mendeley出力
ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 著者標目 | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
| 出版情報 | 東京 : シーエムシー出版 , 2007.4 |
書誌詳細を非表示
| 別書名 | その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー 標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist |
|---|---|
| 版 | 普及版 |
| 巻次 | ISBN:9784882319214 ; PRICE:3600円+税 |
| 大きさ | vi, 253p : 挿図 ; 21cm |
| 本文言語 | 日本語 |
| 一般注記 | 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー 文献: 各章末 |
| 件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:ナノテクノロジー |
| 分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 NDC7:549.3 |
| 書誌ID | 1000179234 |
| ISBN | 9784882319214 |
| NCID | BA81772932 |