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Resists in microlithography and printing / Bohumil Bednář, Jaroslav Králíček, and Jaromír Zachoval ; with contributions by Andrey V. Yelcov and Tatyana A. Yurre
(Materials science monographs ; 76)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 著者標目 | *Bednar, J. Bee Králíček, Jaroslav Zachoval, Jaromír |
| 出版情報 | Amsterdam ; Tokyo : Elsevier , 1993 |
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| 別書名 | 原タイトル:Litografické techniky |
|---|---|
| 版 | 2nd rev. ed |
| 巻次 | ISBN:0444988467 |
| 大きさ | 376 p. : ill. ; 25 cm |
| 本文言語 | 英語 |
| 一般注記 | Translation of: Litografické techniky Includes bibliographical references and index |
| 件 名 | LCSH:Semiconductors -- Design and construction
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LCSH:Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction 全ての件名で検索 LCSH:Microlithography LCSH:X-ray lithography LCSH:Lithography, Electron beam |
| 分 類 | LCC:TK7871.85 DC20:621.381/52 |
| 書誌ID | 1000002828 |
| ISBN | 0444988467 |
| NCID | BA20897060 |