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ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著

データ種別 図書
著者標目 高橋, 清(1934-) [ほか]編著 <タカハシ, キヨシ>
西澤, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ>
出版者 東京 : 工業調査会
出版年 1994.3

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小金井・閲覧室一般書
549.95 60049997
4769311222
小金井・別置図書室
549.95 60057625
4769311222

書誌詳細を非表示

巻次 ISBN:4769311222 ; PRICE:3500円
大きさ 266p ; 21cm
本文言語 日本語
一般注記 執筆者: 西澤潤一ほか
章末: 参考文献
件 名 BSH:半導体
BSH:光化学
NDLSH:電子部品
分 類 NDC8:549.8
NDC8:549
書誌ID 1000003007
ISBN 4769311222
NCID BN10527941

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