Interface engineering of hafnium-based high-K dielectrics and germanium channel / Yusuke Oniki
(博士学位論文 ; 博工甲第769号)
データ種別 | 図書 |
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著者標目 | 鬼木, 悠丞 <オニキ, ユウスケ> |
出版者 | 小金井 : 東京農工大学工学府 |
出版年 | 2012.3授与 |
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別書名 | 異なりアクセスタイトル:ハフニウム系高誘電率ゲート絶縁膜とゲルマニウムチャネルの界面制御に関する研究 |
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大きさ | [iii], 135p ; 31cm |
本文言語 | 英語 |
一般注記 | 所属: 応用化学 熊谷義直研究室 |
書誌ID | 1000220001 |