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Low temperature process technologies for polycrystalline silicon thin-film transistors / Seiichiro Higashi
(博士学位論文 ; 博工乙第59号)

データ種別 図書
著者標目 東, 清一郎 <ヒガシ, セイイチロウ>
出版者 小金井 : 東京農工大学工学研究科
出版年 2001.9授与

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小金井・学位論文
090/R59 60331362

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別書名 異なりアクセスタイトル:多結晶シリコン薄膜トランジスタの低温プロセス技術開発
大きさ 171 p. ; 31 cm.
本文言語 英語
一般注記 所属: 電子情報工学 齋藤忠研究室
書誌ID 1000110853