Low temperature process technologies for polycrystalline silicon thin-film transistors / Seiichiro Higashi
(博士学位論文 ; 博工乙第59号)
データ種別 | 図書 |
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著者標目 | 東, 清一郎 <ヒガシ, セイイチロウ> |
出版者 | 小金井 : 東京農工大学工学研究科 |
出版年 | 2001.9授与 |
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別書名 | 異なりアクセスタイトル:多結晶シリコン薄膜トランジスタの低温プロセス技術開発 |
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大きさ | 171 p. ; 31 cm. |
本文言語 | 英語 |
一般注記 | 所属: 電子情報工学 齋藤忠研究室 |
書誌ID | 1000110853 |