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フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ
フォトポリマーの基礎と応用 / 山岡亜夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 136)

データ種別 図書
著者標目 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ>
出版者 東京 : シーエムシー出版
出版年 2003.3

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小金井・閲覧室一般書
578.4 60588331
4882317877

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別書名 標題紙タイトル:Proceses and applications of photopolymers
その他のタイトル:実用高分子レジスト材料の新展開
普及版
巻次 ISBN:4882317877 ; PRICE:4300円
大きさ vii, 336p ; 21cm
本文言語 日本語
一般注記 「実用高分子レジスト材料の新展開」 (シーエムシー出版 1997年刊) の再版
件 名 BSH:感光性樹脂
分 類 NDC8:578.4
NDC9:578.4
書誌ID 1000179300
ISBN 4882317877
NCID BA61571778

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