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ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)

データ種別 図書
著者標目 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ>
出版者 東京 : シーエムシー出版
出版年 2007.4

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小金井・閲覧室一般書
549.7 60588875
9784882319214

書誌詳細を非表示

別書名 その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist
普及版
巻次 ISBN:9784882319214 ; PRICE:3600円+税
大きさ vi, 253p : 挿図 ; 21cm
本文言語 日本語
一般注記 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
文献: 各章末
件 名 BSH:リソグラフィー
BSH:ナノテクノロジー
分 類 NDC8:549.7
NDC9:549.7
NDC7:549.3
書誌ID 1000179234
ISBN 9784882319214
NCID BA81772932

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