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Plasma processes for semiconductor fabrication / W.N.G. Hitchon
(Cambridge studies in semiconductor physics and microelectronic engineering ; 8)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 著者標目 | *Hitchon, W. Nicholas G. |
| 出版者 | Cambridge ; New York : Cambridge University Press |
| 出版年 | 1999 |
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| 巻次 | : hardback ; ISBN:0521591759 : pbk ; ISBN:0521018005 |
|---|---|
| 大きさ | ix, 221 p. : ill. ; 26 cm |
| 本文言語 | 英語 |
| 一般注記 | Includes bibliographical references (p. 205-211) and index |
| 件 名 | LCSH:Semiconductors -- Etching
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LCSH:Plasma etching |
| 分 類 | LCC:TK7871.85 DC21:621.3815/2 |
| 書誌ID | 1000097939 |
| ISBN | 0521591759 |
| NCID | BA40981104 |