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Development of novel resist process for nano-scale devices / Keiji Watanabe
(博士学位論文 ; 博工生第110号)

データ種別 図書
著者標目 渡部, 慶二 <ワタナベ, ケイジ>
出版者 小金井 : 東京農工大学工学府
出版年 2006.3授与

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小金井・学位論文
090/SK110 60824178

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別書名 異なりアクセスタイトル:ナノスケールのデバイスに向けた新規レジストプロセスの開発
大きさ v, 155 p. ; 31 cm.
本文言語 英語
一般注記 所属: 生物システム応用化学 永井正敏研究室
書誌ID 1000220307
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