Mendeley出力
Study on advanced lithography techniques using scanning probe microscopy for fabrication of nanoscale Si devices / Shinya Nishimura
(博士学位論文 ; 博工甲第729号)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 著者標目 | 西村, 信也 <ニシムラ, シンヤ> |
| 出版者 | 小金井 : 東京農工大学工学府 |
| 出版年 | 2011.3授与 |
書誌詳細を非表示
| 別書名 | 異なりアクセスタイトル:走査型プローブ顕微鏡を用いた新しい微細加工技術の開発とナノスケールSiデバイスへの適用に関する研究 |
|---|---|
| 大きさ | vi, 226 p. ; 31 cm. |
| 本文言語 | 英語 |
| 一般注記 | 所属: 電子情報工学 白樫淳一研究室 |
| 書誌ID | 1000219977 |