コウユウデンリツ ザイリョウ オ モチイタ ゲート ゼツエンマク ノ サクセイ ト ソノ ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
高誘電率材料を用いたゲート絶縁膜の作製とその評価に関する研究 / 長里嘉隆著
(博士学位論文 ; 博工甲第567号)
データ種別 | 図書 |
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著者標目 | 長里, 嘉隆 <ナガサト, ヨシタカ> |
出版者 | 小金井 : 東京農工大学大学院工学府 |
出版年 | 2008.3授与 |
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別書名 | 異なりアクセスタイトル:A study for fabrication and evaluation of gate dielectric thin films using high-k materials |
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大きさ | 150p ; 31cm |
本文言語 | 日本語 |
一般注記 | 所属: 電子情報工学 上野智雄研究室 |
書誌ID | 1000184527 |