ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)
データ種別 | 図書 |
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著者標目 | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
出版者 | 東京 : シーエムシー出版 |
出版年 | 2007.4 |
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別書名 | その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー 標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist |
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版 | 普及版 |
巻次 | ISBN:9784882319214 ; PRICE:3600円+税 |
大きさ | vi, 253p : 挿図 ; 21cm |
本文言語 | 日本語 |
一般注記 | 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー 文献: 各章末 |
件 名 | BSH:リソグラフィー BSH:ナノテクノロジー |
分 類 | NDC8:549.7 NDC9:549.7 NDC7:549.3 |
書誌ID | 1000179234 |
ISBN | 9784882319214 |
NCID | BA81772932 |