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Structural and electrical study of microcrystalline silicon formed by hydrogen radical induced chemicalvapor deposition / Ando Nobuyuki
(博士学位論文 ; 甲第260号)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 著者標目 | 安藤, 伸行 <アンドウ, ノブユキ> |
| 出版者 | 小金井 : 東京農工大学工学部 |
| 出版年 | 2000.3授与 |
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| 別書名 | 異なりアクセスタイトル:水素ラジカルCVD法により形成した微結晶シリコンの構造的・電気的特性の評価 |
|---|---|
| 大きさ | 133 p. ; 31 cm. |
| 本文言語 | 英語 |
| 一般注記 | 所属: 電子情報工学 黒川浩助研究室 |
| 書誌ID | 1000100249 |