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コウユウテン キンゾク サンカブツ ハクマク レジスト ニヨル シュウソク イオン ビーム ナノリソグラフイ
高融点金属酸化物薄膜レジストによる集束イオンビームナノリソグラフィ / 橋本雅広著
(博士学位論文 ; 甲第217号)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 著者標目 | 橋本, 雅広 <ハシモト, マサヒロ> |
| 出版者 | 小金井 : 東京農工大学工学部 |
| 出版年 | 1999.3授与 |
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| 別書名 | 異なりアクセスタイトル:Focused ion beam nanolithography with refractory metal oxide resits |
|---|---|
| 大きさ | 137p ; 31cm |
| 本文言語 | 日本語 |
| 一般注記 | 所属: 電子情報工学 越田信義研究室 |
| 書誌ID | 1000093136 |