Chemical vapor deposition : principles and applications / edited by Michael L. Hitchman and Klavs F. Jensen
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 著者標目 | Hitchman, Michael L. Jensen, Klavs F., 1952- |
| 出版情報 | London : Academic Press , c1993 |
書誌詳細を非表示
| 巻次 | ISBN:0123496705 |
|---|---|
| 大きさ | v, 677 p. ; 24 cm |
| 本文言語 | 英語 |
| 一般注記 | Index:p.[663]-677 |
| 分 類 | DC20:671.735 |
| 書誌ID | 1000002157 |
| ISBN | 0123496705 |
| NCID | BA19797477 |

Mendeley出力